會(huì)議簡(jiǎn)介
X射線粉末衍射數(shù)據(jù)是材料科學(xué)研究中最重要的基礎(chǔ)數(shù)據(jù)之一。深入挖掘這些數(shù)據(jù)中隱含的結(jié)構(gòu)信息對(duì)材料研究至關(guān)重要。
2024年6月22-28日，“第五屆粉末衍射晶體結(jié)構(gòu)解析及Rietveld精修高級(jí)研討會(huì)”將在上海大學(xué)舉行。研討會(huì)將由法國(guó)勞厄朗之萬研究所、中國(guó)散裂中子源、中科院物理所、北京大學(xué)和上海大學(xué)的多位資深學(xué)者主講。
本次研討會(huì)由中國(guó)晶體學(xué)會(huì)晶體學(xué)教育普及工作委員會(huì)發(fā)起，安徽國(guó)科儀器科技有限公司冠名。熱忱歡迎材料科學(xué)研究領(lǐng)域有需求的研究人員參會(huì)。
主辦單位
上海大學(xué)材料基因組工程研究院
北京大學(xué)化學(xué)與分子工程學(xué)院
中國(guó)科學(xué)院物理研究所
中國(guó)晶體學(xué)會(huì)晶體學(xué)教育與普及工作委員會(huì)
中國(guó)晶體學(xué)會(huì)粉末衍射專業(yè)委員會(huì)
中國(guó)物理學(xué)會(huì) X 射線衍射專業(yè)委員會(huì)
國(guó)際晶體學(xué)會(huì) (IUCr)
上海市物理學(xué)會(huì)
上海勞厄科技中心
主講人
Juan Rodriguez-Carvajal
Juan Rodriguez-Carvajal 博士畢業(yè)于西班牙巴塞羅那大學(xué)固體物理專業(yè)，先后就職于巴塞羅那大學(xué)，Grenoble結(jié)晶學(xué)實(shí)驗(yàn)室等，現(xiàn)全職在法國(guó)勞厄-郎之萬研究所從事晶體學(xué)軟件的開發(fā)工作，是歐洲散裂中子源建設(shè)的重要參與者。Juan是目前國(guó)際晶體學(xué)界最具影響力的學(xué)者之一。世界著名晶體結(jié)構(gòu)解析及精修軟件Fullprof Suite的開發(fā)者，F(xiàn)ullprof 軟件在同類軟件中處于領(lǐng)先地位，在磁結(jié)構(gòu)分析方面表現(xiàn)更為優(yōu)秀。其論文引用次數(shù)超過35700次，介紹Fullprof Suite 軟件的論文單篇引用次數(shù)超過17000次。由于其在粉末衍射計(jì)算方面的卓越成就，2019年歐洲粉末衍射委員會(huì)評(píng)價(jià)Juan為“卓越粉末衍射科學(xué)家”。
黃清鎮(zhèn)
黃清鎮(zhèn)，中國(guó)散裂中子源研究員，原美國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)與技術(shù)研究院(NIST)中子研究中心研究員。1977年畢業(yè)于中國(guó)科技大學(xué)物理系，中科院福建物質(zhì)結(jié)構(gòu)研究所工作12年，隨后在NIST中子研究中心從事材料(磁)結(jié)構(gòu)研究30余年。黃清鎮(zhèn)研究員長(zhǎng)期利用GSAS軟件進(jìn)行晶體結(jié)構(gòu)和磁結(jié)構(gòu)分析，是磁結(jié)構(gòu)分析方面的世界知名學(xué)者，累積了豐富的磁結(jié)構(gòu)分析經(jīng)驗(yàn)。在超導(dǎo)、清潔能源、磁性等多個(gè)領(lǐng)域進(jìn)行結(jié)構(gòu)分析工作，在Nature、Science等期刊上發(fā)表440多篇學(xué)術(shù)論文。論文他引超過22,000次。研究成果獲多個(gè)獎(jiǎng)項(xiàng)，包括"NIST Samuel Wesley Stratton"獎(jiǎng)、美國(guó)商業(yè)部"科學(xué)技術(shù)貢獻(xiàn)銀獎(jiǎng)"及中國(guó)科學(xué)院"科技進(jìn)步特等獎(jiǎng)(共享)"等。
董成
董成，中國(guó)科學(xué)院物理研究所研究員，博士生導(dǎo)師，中國(guó)X射線專業(yè)委員會(huì)委員。北京大學(xué)化學(xué)系理學(xué)學(xué)士、碩士，中國(guó)科學(xué)院物理研究所博士，美國(guó)阿肯色大學(xué)和科羅拉多大學(xué)做博士后研究，曾任中國(guó)科學(xué)院物理研究所超導(dǎo)國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室副主任。發(fā)表SCI論文200多篇，他引3000多次。主要研究方向?yàn)? (1)新型超導(dǎo)材料設(shè)計(jì)合成和超導(dǎo)電性(2)粉末衍射晶體結(jié)構(gòu)分析方法研究和相關(guān)計(jì)算機(jī)軟件開發(fā)。發(fā)展了粉末衍射零點(diǎn)校正、K-Alpha 2 精確扣除、最佳擬合法晶胞參數(shù)精修、重疊峰強(qiáng)度分離和等效點(diǎn)系組合等算法。編制的粉末衍射數(shù)據(jù)處理和結(jié)構(gòu)分析軟件PowderX國(guó)內(nèi)外已有3000多用戶。
孫俊良
孫俊良，北京大學(xué)化學(xué)與分子工程學(xué)院研究員，長(zhǎng)聘教授，博導(dǎo)，杰出青年科學(xué)基金獲得者。現(xiàn)為無機(jī)固體材料化學(xué)研究組負(fù)責(zé)人、中國(guó)晶體學(xué)會(huì)秘書長(zhǎng)/副理事長(zhǎng)/黨委副書記, 已發(fā)表SCI學(xué)術(shù)論文100余篇，包括國(guó)際一流期刊 Nature、Science、Nature Mater.、Nature Nanotech.、J. Am. Chem. Soc.、Angew. Chem. 等，2017年獲中國(guó)分子篩青年獎(jiǎng)，2018年獲中國(guó)石化前瞻性基礎(chǔ)性研究科學(xué)獎(jiǎng)一等獎(jiǎng)(6/6)。研究方向主要包括:無機(jī)微孔材料的合成和應(yīng)用(分子篩,含硼/鍺骨架結(jié)構(gòu)等);結(jié)構(gòu)解析方法的發(fā)展(單晶,粉末和透射電子顯微鏡);致密固相化合物(多鐵材料,非公度材料,合金)。
馮振杰
馮振杰，博士師從中科院物理所董成研究員，主要從事粉末衍射晶體結(jié)構(gòu)解析/精修方法、超導(dǎo)/磁性材料方面的研究工作。先后在上海大學(xué)物理系任教，美國(guó)加州理工學(xué)院物理系合作研究等。現(xiàn)上海大學(xué)材料基因組工程研究院工作，研究院制備與表征中心副主任，上海勞厄科技中心主任，上海市浦江人才。十余年晶體結(jié)構(gòu)解析/精修軟件的開發(fā)和使用經(jīng)驗(yàn)，程序開發(fā)成果以第一/通訊在國(guó)際頂級(jí)晶體分析期刊發(fā)表，國(guó)內(nèi)外有700余研究機(jī)構(gòu)使用，并被多本權(quán)威專著列為晶體結(jié)構(gòu)主要解析程序之一。馮振杰課題組正在開發(fā)國(guó)產(chǎn)通用粉末衍射晶體結(jié)構(gòu)分析軟件iCPowder，目前已具備多項(xiàng)功能，此次研討會(huì)將使用該軟件解決多個(gè)問題。
研討會(huì)內(nèi)容
集中討論如何使用Fullprof Suite、iCPowder和Jana軟件進(jìn)行粉末衍射數(shù)據(jù)的分析：
(1)粉末衍射數(shù)據(jù)收集及基本處理技巧
(2)相變前后結(jié)構(gòu)分析方法實(shí)例
(3)未知新相的晶胞參數(shù)求解及空間群確定
(4)Le Bail方法提取積分強(qiáng)度和結(jié)構(gòu)因子
(5)峰形全譜擬合及衍射強(qiáng)度提取
(6)晶體結(jié)構(gòu)解析方法和調(diào)整復(fù)雜結(jié)構(gòu)實(shí)例
(7) 空間群-子空間群關(guān)系及其應(yīng)用實(shí)例
(8)結(jié)合電鏡、電子衍射方法的粉末衍射結(jié)構(gòu)解析實(shí)例
(9)使用儀器參數(shù)文件評(píng)估微觀結(jié)構(gòu)、尺寸和應(yīng)變效應(yīng)的原理和實(shí)例
(10)(重點(diǎn)講解和練習(xí)部分)Rietveld精修的摻雜/多相/剛體問題的處理方法及應(yīng)用實(shí)例等
(11)自動(dòng)化精修演練實(shí)戰(zhàn)
(12) 考慮微觀結(jié)構(gòu)影響的Rietveld精修練習(xí)
(13)二維周期性材料堆垛錯(cuò)誤、渦旋結(jié)構(gòu)分析原理及實(shí)例
研討會(huì)時(shí)間地點(diǎn)
研討會(huì)地點(diǎn)：上海大學(xué)寶山校區(qū)計(jì)算機(jī)房
報(bào)到地點(diǎn)：上海大學(xué)(北門)樂乎新樓賓館大廳
賓館地址：上海市寶山區(qū)錦秋路716號(hào)
交通：地鐵7號(hào)線[上海大學(xué)]站2號(hào)口
第一個(gè)初級(jí)研討會(huì)
報(bào)到時(shí)間：6月22日，14:00-19:00
研討時(shí)間：6月23，24，25日
第二個(gè)高級(jí)研討會(huì)
報(bào)到時(shí)間：6月23日，14:00-19:00
研討時(shí)間：6月26，27，28日
400 180 8989